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生瓷片沖腔機(jī)
用途：該設(shè)備用于帶框生瓷片沖腔工藝，具有自動上下料、自動定位，自動沖切等功能，滿足LTCC、HTCC中沖切工藝需求。
TIME: 2024-12-12
全自動清洗設(shè)備（新材料）
隨著半導(dǎo)體行業(yè)發(fā)展，砷化鎵、磷化銦等二代半導(dǎo)體化合物材料、氮化鎵、碳化硅等三代寬禁帶半導(dǎo)體材料，對于濕化學(xué)清洗工藝提出了新要求。在配置傳統(tǒng)獨(dú)立濕處理工藝槽（SPM、APM、HPM、DHF、IPA Dry）的基礎(chǔ)上，新材料清洗設(shè)備按照客戶工藝菜單進(jìn)行優(yōu)化設(shè)置，配液精度、配液種類、清洗方式方面進(jìn)行設(shè)計(jì)提升，同時保持與行業(yè)廠商、學(xué)校研究院所的積極聯(lián)合探索和設(shè)備定制。
TIME: 2024-10-11
半自動濕處理設(shè)備
有不同的獨(dú)立濕處理工藝槽、按照客戶工藝菜單的設(shè)置，機(jī)械手在各工藝槽中進(jìn)行相應(yīng)的工藝處理。適合用于基片批量的腐蝕/去膠/顯影/清洗等工藝.
TIME: 2024-10-11
自動供液系統(tǒng)
自動供液系統(tǒng)可以通過VMB給多臺設(shè)備進(jìn)行供液。具有過濾、循環(huán)功能，根據(jù)用戶要求配備雙組或者多組過濾、循環(huán)系統(tǒng)；當(dāng)其中一個桶內(nèi)的液體用完時，能夠自動進(jìn)行雙桶切換并且提示用戶。同時還具備化學(xué)液的取樣檢測功能。
TIME: 2024-10-11
溫等靜壓機(jī)
該設(shè)備用于 LTCC、HTCC 和 MLCC 的加壓作業(yè)，最 大壓力80MPa，最大直徑600，最小230
TIME: 2024-10-11
全自動疊層機(jī)
全自動疊層機(jī)是用于生瓷片疊片的設(shè)備，具備自動上下料、自動切片、自動撕膜、自動對位、真空疊壓等功能，廣泛應(yīng)用于LTCC、HTCC、MLCC等領(lǐng)域。
TIME: 2024-10-12
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有機(jī)清洗機(jī)主要用在什么地方
2024-11-21有機(jī)清洗機(jī)主要用于以下幾個方面： 1.工業(yè)制造領(lǐng)域 電子工業(yè) 半導(dǎo)體制造：在半導(dǎo)體芯片的生產(chǎn)過程中，有機(jī)清洗機(jī)起著至關(guān)重要的作用。芯片制造工藝復(fù)雜，經(jīng)過光刻、刻蝕、沉積等多個工序后，晶圓表面會殘留光刻膠、蝕刻液、金屬顆粒等污染物。有機(jī)清洗機(jī)可以使用特定的有機(jī)溶劑，如丙酮、異丙醇等，有效去除這些雜質(zhì)。例如，在光刻膠去除環(huán)節(jié)，清洗機(jī)能夠正確控制清洗液的溫度、濃度和清洗時間，確保光刻膠被徹底清除，同時不會對芯片表面的優(yōu)良結(jié)構(gòu)造成損傷，保證芯片的性能和質(zhì)量。
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自動供液系統(tǒng)的作用是什么
2024-11-14自動供液系統(tǒng)具有多方面的作用，具體如下： 1.正確控制供液量： 在工業(yè)生產(chǎn)中，可按照生產(chǎn)工藝的要求，正確地將液體輸送到一定的位置，確保每個生產(chǎn)環(huán)節(jié)都能獲得正確劑量的液體，從而保證生產(chǎn)過程的穩(wěn)定性和產(chǎn)品質(zhì)量。例如，在電子芯片制造過程中，需要正確控制各種化學(xué)試劑的供給量，自動供液系統(tǒng)可以正確地將這些化學(xué)試劑輸送到生產(chǎn)線的特定位置，確保芯片制造的精度和質(zhì)量。
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溫等靜壓機(jī)的特點(diǎn)是什么
2024-11-07溫等靜壓機(jī)具有以下特點(diǎn)： 1.壓力均勻性高： 工作時，將待處理的工件放入充滿液體的封閉容器中，利用液體的不可壓縮性和流動性，使壓力均勻地傳遞到工件的各個表面，確保工件在各個方向上受到的壓力相等。這種均勻的壓力作用能夠使成型后的工件密度均勻，內(nèi)部結(jié)構(gòu)緊密，提高了工件的質(zhì)量和性能。例如，在陶瓷材料的成型過程中，溫等靜壓機(jī)可以使陶瓷坯體的密度均勻性大大提高，減少了因密度不均勻?qū)е碌臒Y(jié)變形、開裂等問題。
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